Аргон сверхвысокой чистоты 7.0 в УФ-литографии

УФ-литография является неотъемлемой частью процесса создания полупроводниковых устройств. Этот процесс заключается в создании микросхем на полупроводниковых подложках с использованием ультрафиолетового света и фотошаблонов. Однако для достижения высочайшей точности и качества в производстве полупроводниковых чипов требуется аргон с чистотой 99,99 999%.

Использование сверхчистого аргона в УФ-литографии имеет важное значение. Аргон обладает низкой реакционной способностью и низкой энергией ионизации, что делает его идеальным первичным плазменным газом для реакций травления и осаждения в процессе создания полупроводников.

Эти особенности позволяют более точно контролировать процессы на микроскопическом уровне, что необходимо при производстве современных полупроводников.

Процесс литографии в экстремальном ультрафиолетовом излучении (EUV) стал краеугольным камнем в создании инновационных процессорных чипов. Для этого процесса требуется вакуум, и все оптические элементы должны использовать бездефектные многослойные молибден/кремний (Mo/Si) зеркала, которые работают на длине волны 13,5 нм.

Они отражают свет благодаря межслойной интерференции волн. Для поддержания стабильности и качества процесса требуется высокая чистота аргона.

Традиционно прогресс в области полупроводниковых технологий достигался путем уменьшения размеров элементов. Это позволяет уместить больше транзисторов на одной микросхеме, увеличивая производительность и снижая энергопотребление. Однако, по мере уменьшения размеров, полупроводниковые устройства становятся все более хрупкими и требовательными к качеству материалов.

В мире, где важны положения отдельных атомов, пороги отказоустойчивости невероятно высоки. Это делает чистоту аргона неотъемлемой частью современных полупроводниковых процессов. Сверхчистый аргон 99,99 999% обеспечивает минимальное влияние внешних примесей и гарантирует, что каждый этап производства полупроводников будет максимально точным.

Мы работаем с 2010 года. Доставляем газы сверхвысокой чистоты по России и странам СНГ (Казахстан, Узбекистан, Армения, Грузия, Белоруссия). Сотрудничаем не только с медицинскими учреждениями, но и с заводами по производству полупроводников и микросхем.

У нас вы можете заказать аргон с чистотой 99,99 999%. Аргон 7.0 доставляется в алюминиевых баллонах 40л/200Атм. В баллоне содержится около 6650 литров газа.

Использование сверхчистого аргона с уровнем чистоты 7.0 является неотъемлемой частью процесса УФ-литографии. Этот газ обеспечивает высочайшую точность и чистоту, необходимую для создания микросхем и полупроводниковых устройств. С его помощью инновации в полупроводниковой индустрии становятся возможными.